一種光學(xué)三維形貌測(cè)量方法，先按照實(shí)際測(cè)量要求，布置好由投影系統(tǒng)、相機(jī)組成的測(cè)量系統(tǒng)；然后根據(jù)測(cè)量需要設(shè)計(jì)條紋圖并由投影系統(tǒng)投影到被測(cè)物體表面，被物體反射的條紋圖由相機(jī)采樣；再?gòu)牟蓸訔l紋圖解調(diào)出包裹相位，解包裹后得到條紋圖的真實(shí)相位值；然后由遠(yuǎn)心鏡頭的放大率、相機(jī)像元大小及采樣條紋圖的圖像坐標(biāo)求解得到被測(cè)物體X、Y軸坐標(biāo)；最后標(biāo)定得到投影系統(tǒng)的相關(guān)參數(shù)，結(jié)合條紋相位，根據(jù)三角關(guān)系求得被測(cè)物體Z軸的坐標(biāo)；本發(fā)明標(biāo)定過(guò)程簡(jiǎn)單，既提高了三維坐標(biāo)的求解速度又能達(dá)到更高的測(cè)量精度；一次標(biāo)定即可保證之后所有測(cè)量的使用，效率很高。

背景技術(shù)：S維測(cè)量在快速成型、質(zhì)量檢測(cè)中有著廣泛的需求。同時(shí)，它在逆向工程、醫(yī)療等 領(lǐng)域也有著廣泛應(yīng)用。傳統(tǒng)的=維測(cè)量方法主要是接觸式測(cè)量，如=坐標(biāo)測(cè)量機(jī)。隨著光學(xué) 技術(shù)的進(jìn)步，光學(xué)=維測(cè)量技術(shù)得到了長(zhǎng)足的發(fā)展，被越來(lái)越廣泛地應(yīng)用到=維測(cè)量中。典 型的光學(xué)=維測(cè)量方法有點(diǎn)激光掃描測(cè)量、線激光掃描測(cè)量、結(jié)構(gòu)光投影測(cè)量及干設(shè)測(cè)量 等。其中，基于正弦條紋投影的結(jié)構(gòu)光投影=維測(cè)量方法，由于操作便捷、測(cè)量精度較高、測(cè) 量速度快、適應(yīng)性好等優(yōu)點(diǎn)，是一種非常優(yōu)越的=維測(cè)量手段。
[0003] 正弦條紋投影=維測(cè)量輪廓術(shù)需要投影正弦條紋到被測(cè)物體表面，反射的條紋圖 像被相機(jī)采樣得到，求解采樣條紋相位后，結(jié)合標(biāo)定得到的測(cè)量系統(tǒng)參數(shù)，即可由相位恢復(fù) 被測(cè)物體的=維形貌。現(xiàn)有的正弦條紋投影=維測(cè)量輪廓術(shù)具有W下特點(diǎn)：投影的正弦條 紋圖的相位在整個(gè)圖像平面內(nèi)沿某一方向呈線性變化;在由單相機(jī)-單投影儀構(gòu)成的測(cè)量 系統(tǒng)中，相位到被測(cè)物體=維形貌的轉(zhuǎn)化總會(huì)用到由投影光線與相機(jī)采樣光線之間構(gòu)成的 =角關(guān)系，很多情況下需要一個(gè)參考面，=維求解過(guò)程復(fù)雜。